”International Symposium on Dry Process” (ドライプロセスに関する国際シンポジウム)という11月18-19日に行われる国際会議で、共同研究者が発表することになりました。その連名末席に名を連ねることになりました。九州大学　古閑 一憲先生のグループとの共同研究です。

ポスターセッション: P-32

S. H. Hwang et al.

Reduction of compressive stress of hydrogenated amorphous carbon films by inserting carbon nanoparticle layer using plasma CVD

　ご時世に従い、オンラインです。

　以下ちょっとした業界説明まで。